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UV激光曝光系统

扫描曝光方式特点:  
1.光束垂直高度<=0.23°; 
2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制; 
3.光斑能量密度高; 
4.不需掩膜,可精确曝光三维图形; 
5.可快速修改任意曝光图形。 

掩膜曝光方式特点:

1.光束直径可达φ100mm,可定制; 
2.光束发散角小,光束准直度可达到5µrad; 
3.可精确曝光三维图形; 
4.对环境温度要求不高。
应用领域:FPC、数码产品、印刷等。
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